離子束刻蝕機是一種利用離子把能量傳輸到固體靶上的過程。若原子間的結能比注入離子的能量小，固體表面的原子將消失或消失。稀金屬離子經常受到腐蝕。

  該離子束的直徑很小，約10微米，組織結構可達10納米。該材料具有100.10.10納米的腐蝕性能，可以加工12納米。與固體和電子相比，離子對固體的散射效應較小，而直寫速率可以小于50納米，所以聚焦離子束腐蝕是一種比較理想的納米加工方法。焦離子束技術還具有微電腦控制注入的無光度、不受顯影腐蝕等優點，可以直接制備各種納米材料。但是離子束加工的損傷問題比較突出，其加工精度難以控制，控制精度不高。

離子束刻蝕機基本用途：

  一種物理腐蝕方式，通過電場加速離子束對任何材料產生各向異性腐蝕，可以根據傾斜角度調整側壁形狀，降低濺射材料的再沉積污染。

離子束刻蝕機參數：

  水冷卻工作面實現旋轉傾斜，樣品的腐蝕深度為φ100mm，工藝條件下樣品的表面溫度低于100℃，旋轉0-9度，傾斜0-90度；蝕刻距離：150-160nm。

  真空度≤10~4帕，5×10-4帕；離子束的工作真空度約5×10-4帕；到達底部真空時間≤30分鐘；

  離子源：由陰極、陽極、屏風、加速柵、中和耦合而成的復合電源。