原子層沉積設(shè)備被廣泛使用，雖然它經(jīng)常出現(xiàn)在許多行業(yè)，但大多數(shù)人并不太了解它。但你不必?fù)?dān)心。接下來(lái)，讓我們來(lái)談?wù)勗訉映练e設(shè)備的主要功能？如果你想知道，繼續(xù)往下看。

我們?cè)谑褂迷訉映练e設(shè)備之前需要了解很多知識(shí)點(diǎn)。

首先，用戶需要知道的是什么是原子層沉積設(shè)備？

事實(shí)上，原子層沉積設(shè)備是化學(xué)和材料科學(xué)領(lǐng)域的一種薄膜制備設(shè)備。作為制造商，我們還需要清楚地告訴您，其技術(shù)指標(biāo)是反應(yīng)腔壁的加熱溫度可以為100℃~300℃。此外，沉積系統(tǒng)的反應(yīng)腔可以適應(yīng)在8英寸及以下平面基礎(chǔ)上沉積薄膜材料，對(duì)基礎(chǔ)形狀沒(méi)有嚴(yán)格要求，其基礎(chǔ)加熱溫度可達(dá)500℃，這是其技術(shù)指標(biāo)。

原子層沉積設(shè)備具有熱ALD沉積氧化物、氮化物、貴金屬等薄膜材料的一些功能，并具有等離子體增強(qiáng)ALD、Loadlock單元擴(kuò)展功能。目前市場(chǎng)上生產(chǎn)原子層沉積系統(tǒng)的廠家較多，建議找到專業(yè)的微納材料、半導(dǎo)體、微電子材料及設(shè)備研發(fā)儀器設(shè)備供應(yīng)商和代理儀器設(shè)備的廠家溝通咨詢。