反應離子刻蝕機的原理和結構

基本原理

     反應離子刻蝕機是整個有機化學過程和物理過程相互作用的結果。其基本概念是在真空泵氣壓低下，ICP頻射開關電源引起的頻射輸出到環形蓮藕電磁線圈，通過蓮藕輝光放電與一定比例的混合蝕刻汽體產生高密度等離子技術。在下電級RF頻射效應下，反應離子刻蝕機對基板表面進行負電子，切斷基板圖形區域半導體器件的離子鍵，與蝕刻汽體轉化為揮發性化學物質。

構造：

    機械設備的重點包括預真空室、刻蝕室、氣路系統軟件和超濾裝置。

(1)預真空室。

   預真空室的作用是保證刻蝕室內設定的真空值不受外部自然環境(如煙塵、水蒸氣)的傷害，保護危險因素蒸汽和凈化車間。它由后蓋板、機械臂、傳動機構、防護門等組成。

(2)內腔刻蝕。

   蝕刻內腔是ICP蝕刻機械設備的關鍵結構，往往對蝕刻速度、平整度和表面粗糙度造成立即傷害。蝕刻腔的關鍵組成部分包括:上電級、ICP頻射模塊、RF頻射模塊、下電級系統軟件、溫控系統軟件等。

(3)氣路系統軟件。

   氣路系統軟件是根據壓力控制器(PC)和質量流量控制器(MFC)，將各種刻蝕汽體運輸到刻蝕內腔，準確控制汽體的水流和總流量。汽體供應系統軟件由氣動閥門瓶、汽體運輸管道、自動控制系統、混合模塊等組成。

(4)超濾裝置。

   超濾裝置有兩種，分別用于預真空室和刻蝕內腔。預真空室由機械泵獨立真空包裝。只有當預真空室的真空值達到預設值時，才能打開保護門并進行傳輸。刻蝕內腔的真空泵由機械泵和分子泵相互顯示，刻蝕內腔反映轉化的氣體也由超濾裝置排出。

  以上就是小編為大家介紹的反應離子刻蝕機的原理和結構。