激光直寫光刻機知識點

   激光直寫光刻機知識是一種多功能激光光刻機，采用固定連續(xù)的375nm或405nm紫外光源，直接在光刻膠或紫外敏感膠中刻劃出微結構，直寫面積可達6英寸，較小特征尺寸(寬)可達1微米，適用于掩蔽、半導體、玻璃、晶體、薄膜等多種基片。

  激光直寫光刻機知識，提供垂直直寫和掃描兩種方式，保證正軌偏差小于100nm。本實用新型采用電動光學聚焦系統(tǒng)，能迅速、準確地對焦，以適應各種厚度基板的要求，并有可供客戶選擇的晶圓裝、卸料系統(tǒng)，加強清潔度，增加工作效率，提高用戶安全性。

激光直寫光刻機知識特點”

1.十分緊湊的桌面式設計。

2.遮蔽制作與激光直寫。

3.可選擇375nm或405nm的激光光源。

4.適用于各種商業(yè)光刻膠。

5.這種反差可以達到1x20。

6.自動聚焦

7.垂直書寫或掃描直寫模式。

8.激光直寫高分辨光刻機的參數(shù)。

9.直寫速度：可達500mm/s。

10.位移儀分辨率：100nm。

11.循環(huán)精度：100nm。

12.薄片直寫面積：1-6英寸。

13.襯底厚度：250um-10mm。

14.激光點尺寸：1um-50um。

15.標定精度：500nm。