脈沖激光沉積的優勢：

       1.易于獲得預期化學測量比的多組分膜，即具有良好的保成分性；

       2.沉積率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，薄膜制備均勻；

       3.任意調整工藝參數，對靶材類型無限制；

       4.發展潛力巨大，兼容性強；

       5.易清便，可制備多種薄膜材料。

脈沖激光沉積的略勢：

        脈沖激光沉積作為一種新的沉積技術，還需要解決以下問題：（1）在激光引起的爆炸過程中，沉積膜中熔化的小顆粒或目標碎片會飛濺。這些顆粒的存在大大降低了薄膜的質量。事實上，這是PLD需要解決的關鍵問題（2）僅限于當前商用激光的輸出能量，尚未證明激光在大面積沉積中的可行性，但原則上（3）平均沉積率緩慢，沉積面積約1000平方毫米，每小時沉積厚度約為數百至1微米；

發展前景：

       從脈沖激光沉積技術的原理可以看出，它是一種具有巨大發展潛力的薄膜制備技術。隨著輔助設備和工藝的進一步優化，它將在半導體膜、超晶格、超導、生物涂層等功能膜的制備中發揮重要作用；加快薄膜生長機制的研究，提高薄膜的應用水平，加快材料科學和凝聚物理的研究過程。同時，它也為制備新薄膜提供了有效的方法。