激光直寫光刻機是一種用于物理學、信息科學與系統科學、材料科學、機械工程領域的儀器，該設備是基于空間光調制器的直寫光刻設備，用于制作光刻掩膜。

傳統的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業供應商提供，但是在研發環境中，掩膜板的設計通常需要經常改變。無掩膜光刻技術通過以軟件設計電子掩膜板的方法，克服了這一問題。與通過物理掩膜板進行光照的傳統工藝不同，激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

我們的多功能激光直寫光刻系統，具有結構小巧緊湊，無掩膜直寫系統的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點。采用集成化設計，全自動控制，可靠性高，操作簡便。適用于各種實驗室。

應用領域

小型立式無掩膜光刻系統是公司專為實驗室設計開發，為微流控、SAW、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便高效的微加工方案。

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