采用蒸發(fā)方式在襯底上蒸鍍微米級厚度的高質(zhì)量銦柱，是實現(xiàn)高密度三維互連工藝的關(guān)鍵設(shè)備。

銦蒸鍍系統(tǒng)由工藝腔室、真空系統(tǒng)、電阻 發(fā)源系統(tǒng)、樣品臺系統(tǒng)、膜厚系統(tǒng)、離子源系統(tǒng)以及控制系統(tǒng)等組成。

樣品尺寸：≤200mm；

薄膜膜厚不均勻性：≤±5%；薄膜膜厚重復(fù)性≤±3%；

極限真空度：優(yōu)于1E- 7Torr；

恢復(fù)抽真空時間：從大氣~5E-6Torr小于30分鐘；

系統(tǒng)漏率： 發(fā)室空氣泄漏率不大于 5E-5Torr.L/s；

樣品臺轉(zhuǎn)速可調(diào)，具有冷卻功能，溫度范圍-70℃至200℃；

集成一個 冷襯板組合，位于樣品臺垂直下方；

可進行在線膜厚測量，晶振膜厚控制儀集成于系統(tǒng)PLC，可用于蒸發(fā)源和擋板

的自動操作，能精確的進行過程控制。

工藝腔體采用鋁合金或不銹鋼；高度900毫米至1200毫米，內(nèi)徑650毫米至700毫米，

保證蒸發(fā)鍍膜入射角度；

配置一套功率≥6KW的專用蒸發(fā)源，帶流量感應(yīng)探頭的冷卻水回路，提供一套陰極離子源，用于樣品前處理；

以上就是今日小編為大家介紹的蒸銦設(shè)備。

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